薄膜制備小型磁控濺射儀是一種用于物理學領(lǐng)域的物理性能測試儀器，用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

 

　　薄膜制備小型磁控濺射儀設(shè)備由磁控濺射臺，制冷裝置，渦輪分子泵及氣體流量控制儀組成。在濺射真空室中使用二號靶位的射頻電源對靶材進行磁控濺射。靶材的上方為基片行走單元，能夠?qū)崿F(xiàn)在不同靶位來回循環(huán)運動。可以控制行走單元的轉(zhuǎn)速、時間、靶位來得到更加均勻的薄膜。氣體流量控制儀器能夠?qū)崿F(xiàn)對氬氣等濺射氣體及真空腔內(nèi)壓強的測量。

 

　　薄膜制備小型磁控濺射儀自帶了基底加熱裝置，能夠支持高到400攝氏度的基底升溫，通過加熱電源、溫度計、電爐絲及溫度控制裝置實現(xiàn)對基底的準備升溫和溫度保持。

 

　　薄膜制備小型磁控濺射儀的磁控濺射技術(shù)不僅是科學研究和電子制造中常用的薄膜制備工藝技術(shù)，經(jīng)過多年的不斷完善和發(fā)展，該技術(shù)也已經(jīng)成為重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)之一，廣泛應用于玻璃、汽車、醫(yī)療衛(wèi)生、電子工業(yè)等工業(yè)和民生領(lǐng)域。

 

　　例如，采用薄膜制備小型磁控濺射儀磁控濺射工藝生產(chǎn)鍍膜玻璃，其膜層可以由多層金屬或金屬氧化物祖成，允許任意調(diào)節(jié)能量過率、反射率，具有良好的美觀效果，被越來越多的被應用于現(xiàn)代建筑領(lǐng)域。

 

　　再比如，薄膜制備小型磁控濺射儀磁控濺射技術(shù)也能夠應用于織物涂層[3]，這些織物涂層可以應用于安全領(lǐng)域，如防電擊、電磁屏蔽和機器人防護面料等，也可用于染料制作。這樣的涂層織物在醫(yī)療衛(wèi)生、環(huán)境保護、電子工業(yè)等領(lǐng)域都有重要的應用。